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ETSys-Map-PV在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)

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產(chǎn)品摘要

  • 南北儀器是ETSys-Map-PV在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)產(chǎn)品的供應(yīng)商,提供ETSys-Map-PV在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)全套產(chǎn)品的價(jià)格,參數(shù),價(jià)錢,報(bào)價(jià),品牌等資料,歡迎來(lái)電咨詢優(yōu)惠價(jià)錢,南北儀器品質(zhì)提供

 

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ETSys-Map-PV是針對(duì)高端薄膜太陽(yáng)電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域中大面積樣品檢測(cè)專門設(shè)計(jì)的在線薄膜測(cè)量系統(tǒng)。

ETSys-Map-PV用于對(duì)1.4m * 1.1m及以上的大面積薄膜太陽(yáng)電池樣品進(jìn)行在線檢測(cè)。可測(cè)量光滑平面或粗糙表面基底上的納米薄膜,包括單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;并可同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。可測(cè)量樣品上區(qū)域的樣品參數(shù)以及樣品表面的均一性分布。

ETSys-Map-PV融合量拓科技在高精度激光橢偏儀及光伏在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域的技術(shù)和產(chǎn)品設(shè)計(jì)方面的經(jīng)驗(yàn)。

特點(diǎn):

大面積絨面樣品上全表面測(cè)量

可對(duì)大面積絨面薄膜太陽(yáng)電池樣品上各點(diǎn)的性質(zhì)進(jìn)行分析和比較。光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測(cè)器件以及高信噪比的微弱信號(hào)處理方法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)粗糙表面散射為主和反射率為特征的絨面太陽(yáng)電池表面鍍層的高靈敏檢測(cè)。

微米量的全面積掃描精度

系統(tǒng)設(shè)計(jì),能夠使探頭到達(dá)樣品上每個(gè)點(diǎn),掃描精度達(dá)到微米量。

原子層量的膜厚分析精度

采用非接觸、無(wú)破壞性的橢偏測(cè)量技術(shù),對(duì)納米薄膜達(dá)到的測(cè)量準(zhǔn)確度和靈敏度,膜厚測(cè)量靈敏度可達(dá)到0.05nm。

簡(jiǎn)單方便安全的儀器操作

用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶進(jìn)行高測(cè)量設(shè)置。

應(yīng)用:

ETSys-Map-PV適合于高精度要求的薄膜太陽(yáng)電池研發(fā)和質(zhì)量控制。

ETSys-Map-PV可用于測(cè)量大面積的薄膜太陽(yáng)電池樣品上單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;

ETSys-Map-PV可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n及消光系數(shù)k;

ETSys-Map-PV可應(yīng)用于:

大面積薄膜太陽(yáng)電池基底的材料測(cè)量

薄膜太陽(yáng)電池玻璃基底上透明導(dǎo)電氧化物(TCO)鍍膜測(cè)量

技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目

技術(shù)指標(biāo)

系統(tǒng)型號(hào)

ETSys-Map-PV

結(jié)構(gòu)類型

在線式

激光波長(zhǎng)

632.8nm (He-Ne laser)

膜厚測(cè)量重復(fù)性(1)

0.05nm (對(duì)于Si基底上99nm的SiO2膜層)

折射率n精度(1)

5x10-4(對(duì)于Si基底上99nm的SiO2膜層)

結(jié)構(gòu)

PSCA

激光光束直徑

~1 mm

入射角度

60°-75°可選

樣品放置

放置方式:水平

運(yùn)動(dòng):X軸單方向運(yùn)動(dòng)

運(yùn)動(dòng)范圍:>1.4m

三維平移調(diào)節(jié)

二維俯仰調(diào)節(jié)

可對(duì)樣品進(jìn)行掃描測(cè)量

樣品臺(tái)尺寸

1.4m*1.1m,并可定制。

測(cè)量速度

典型0.6s-4s /點(diǎn)(取決于樣品種類及測(cè)量設(shè)置)

大的膜層厚度測(cè)量范圍

光滑平面樣品:透明薄膜可達(dá)4000nm,吸收薄膜與材料性質(zhì)相關(guān)

選配件

樣品監(jiān)視系統(tǒng)

自動(dòng)樣品上片系統(tǒng)

注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。

性能保證

高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、高精度的采樣方法以及低噪聲探測(cè)技術(shù),保證了系統(tǒng)的高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度

穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn),結(jié)合的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量

一體化集成式的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高

一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù),方便用戶使用

可選配件:

NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片

NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片

標(biāo)簽: EM01-RD 多入射角激光橢偏儀 EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
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